|
جزئیات محصول:
|
| Color: | Colorless to yellowish liquid | Specific weight: | 1.01-1.25 |
|---|---|---|---|
| PH: | 12.0-14.0 | قلیایی رایگان (پیونت): | .5 13.5mg |
| برجسته: | مواد شوینده سیلیکون,تمیز کردن شیمیایی صنعتی |
||
دو گروه صنعتی کنسانتره محلول تمیز کردن ویفر صنعتی سیلیکون
برای تمیز کردن موثر ویفرهای سیلیکونی ، تولید کنندگان سیلیکون لیست زیر مراحل تمیز کردن را توصیه می کنند:
مرحله اول: حلال تمیز
مشاغل تولید نیمه هادی از حلال ها برای حذف موفقیت آمیز روغن و مانده های آلی از سطح ویفرهای سیلیکون استفاده می کنند. در حالی که حلال ها این آلاینده ها را حذف می کنند ، خود حلالها نیز بر روی سطح ویفرها باقی می مانند. به همین دلیل ، یک روش دو حلال برای اطمینان از بازگشت ویفر به حالت آلوده کننده اجرا شده است. روش تمیز کردن حلال در زیر شرح داده شده است:
دو حمام ، یک ظرف شیشه ای با استون و دیگری با متانول آماده کنید.
ظرف استون را روی یک بشقاب داغ قرار دهید تا استون را تا دمای بیش از 55 درجه سانتیگراد گرم کنید.
پس از گرم شدن ، ویفر سیلیکون را به مدت 10 دقیقه در حمام استون خیس کنید.
بعد از اتمام حمام استون ، ویفر سیلیکونی را برداشته و به مدت 5 دقیقه درون ظرف متانول قرار دهید.
پس از اتمام زمان ، ویفر را از متانول جدا کرده و در آب دی ال شستشو دهید.
ضربه ویفر سیلیکون را با نیتروژن خشک کنید.
مرحله دوم: RCA-1 Clean
کسانی که در صنعت تولید نیمه هادی هستند از RCA تمیز برای از بین بردن مانده های آلی استفاده می کنند. RCA تمیز سیلیکون را اکسیده می کند و یک لایه محافظ نازک از اکسید را به سطح ویفر می دهد. روش تمیز کردن RCA-1 در زیر شرح داده شده است:
آماده سازی یک حمام RCA با ترکیب 5 قسمت آب دی و 1 قسمت هیدروکسید آمونیوم (27٪).
ظرف RCA را روی یک صفحه داغ قرار دهید تا محلول در دمای تقریبا 70 درجه سانتیگراد گرم شود.
پس از رسیدن این دما ، ظرف را از صفحه داغ جدا کرده و 1 قسمت پراکسید هیدروژن (30٪) اضافه کنید. راه حل پس از یک یا دو دقیقه حباب می کند.
هنگامی که محلول شروع به حباب کرد ، ویفر سیلیکون را تقریباً 15 دقیقه خیس کنید.
پس از اتمام زمان ، ویفر را از حمام RCA خارج کرده و آن را درون یک ظرف با آب دی ان قرار دهید ، چندین بار آب را تغییر دهید تا محلول کاملا آبکشی شود.
پس از این فرآیند ، ویفر را از درون ظرف زیر آب در آورید تا اطمینان حاصل شود که هیچ گونه باقیمانده از سطح آب به ویفر نچسبد.
مرحله سوم: اسید هیدروفلوئوریک (HF) غوطه وری
سپس مشاغل تولید نیمه هادی مرحله آخر یعنی HF را برای از بین بردن دی اکسید سیلیکون از سطح ویفر سیلیکون اجرا می کنند. توجه به این نکته ضروری است که HF یک ماده شیمیایی خطرناک است ، بنابراین تولید کنندگان سیلیکون توصیه می کنند در طول این مرحله ، وسایل محافظتی مانند دستکش سنگین و ساییدگی چشم پوشیده شود. روند HF Dip در زیر شرح داده شده است:
یک ظرف مخلوط HF را با ترکیب 480 میلی لیتر آب با 20 میلی لیتر HF ایجاد کنید. همیشه از یک لیوان پلی پروپیلن بر خلاف یک لیوان شیشه ای استفاده کنید زیرا HF شناخته شده است که هنگام تماس با هر ماده شیشه ای واکنش خطرناکی نشان می دهد.
بعد از ایجاد محلول ، ویفر سیلیکون را به مدت 2 دقیقه خیس کنید.
پس از اتمام زمان ، ویفر را برداشته و در زیر آب در حال شستشو بشویید.
با ریختن آب DI روی سطح ویفر ، یک آزمایش خیس بودن را انجام دهید. اگر آب به دانه های کوچکی تبدیل شود و خاموش شود ، می دانید که سطح آن آبگریز و عاری از اکسید است.
ضربه ویفر سیلیکون را با نیتروژن خشک کنید.
انجام مراحل فوق توصیه شده توسط تولید کنندگان سیلیکون به مشاغل موجود در صنعت تولید نیمه هادی کمک می کند تا بر چالش های آلودگی به ویفرهای سیلیکونی غلبه کنند.
پارامتر فنی راه حل تمیز کردن ویفر سیلیکون
طبقه بندی پروژه | JH-1015-2 راه حل تمیز کردن ویفر سیلیکون | تست استاندارد |
| ظاهر | مایع بی رنگ تا زرد | تجسم |
| وزن مخصوص | 0.050 50 1.000 | متراکم |
| pH | 1.0-2.0 | ابزار PH |
| قلیایی رایگان (پیونت) | - | CYFC |
کارخانه ما
این کارخانه به مساحت 26653 متر مربع ، ساخت کارگاه کلاس ، کارگاه کلاس C ، انبار کلاس C ، انبار و سایر امکانات کمکی را دربرمی گیرد. درگیر بیش از 100 نوع گونه شیمیایی. ظرفیت تولید 11000 تن در سال.
اول ، مشخصات تولید شرکت
1. کارگاه کلاس C
کارگاه C ، 2 # ، 1 # با خطوط تولید 3 # ، 7 # چهار ، با استفاده از تجهیزات تولید بسته از جمله تولید اتوماسیون خط 1 ، 2 # ، 3 # و تنظیم دو خط پر کننده اتوماتیک کاملاً اتوماتیک ، مشخصات پر کننده از 1L ~ 25L قوطی. این مواد در یک محل بسته شده جداگانه انجام می شوند. مطابق با الزامات تنوع محصول ، اتاق کنترل مرکزی خط تولید کلاس C به انواع ابزار و سنسور مجهز شده است تا تعدد سیستم های کنترل را تشکیل دهد.
2- یک کارگاه کلاس کنید
یک کارگاه را با سه میکسر شافت و دستگاه پراکندگی پر سرعت کلاس سه مجموعه از دو ، حرفه ای کلاس تهیه کنید تا انواع رنگ و تولید پوشش را ارائه دهید.
3. انبار C
مساحت ساخت انبار C با بیش از 3300 متر مربع و دارای منطقه آتش نشانی می تواند برای طبقه بندی مواد اولیه شیمیایی و محصولات نهایی مورد استفاده قرار گیرد.
4- انبار
دو منطقه ساخت انبار بیش از 1400 متر مربع و دارای منطقه آتش نشانی است که می توان برای دسته بندی های B مواد خام شیمیایی و ذخیره سازی طبقه بندی شده محصولات نهایی استفاده کرد.
5- سایر امکانات
این کارخانه پس از تصفیه فاضلاب به عنوان آب قابل بازیافت برای تولید ، دارای امکانات تصفیه فاضلاب حرفه ای ، ظرفیت پردازش 20T در روز است. این کارخانه با چهار مجموعه تجهیزات تصفیه گاز زباله ، کلیه تجهیزات تصفیه گاز خروجی پس از استانداردهای تخلیه مجهز شده است.
تماس با شخص: kyjiang
تلفن: +8613915018025
