تمیز کردن شیمیایی صنعتی تمیز کردن ویفر سیلیکون Foam پایین JH-1018

مواد شوینده برش JC-1018 Single Silicon PH 13.0-14.0 مایع بی رنگ تا زرد مایل به زرد

1. مختصر

این محصولات ثبت اختراع برای خرد شدن سطح الکترون و قطعه خورشیدی درجه خورشیدی در حوزه فناوری اطلاعات و باتری خورشیدی است و شماره ثبت اختراع آن ZL200710020269.6 است. این محصول حاوی گروه دوتایی است که عملکرد خوبی در تعبیه ساپونیفیوناسیون امولسیون به گذشته روغنهای معدنی روغنی پرمصرف از گذشته ، همچنین در محاصره نواری پیچیده به یون فلزی دارد.

2. ویژگی

1) محصولات گروهی با PPR مناسب (نسبت قیمت عملکرد)

2) از کلسیم ، منیزیم ، فلز ، مس ، سرب و فسفر عاری باشد و نیاز ROHS را برآورده سازد.

3) کف کم ، بدون سرریز کف در تمیز کردن اولتراسونیک.

4) عملکرد دانه زدایی خوب برای پاسخگویی به نیاز منطقه IT با دقت بالا.

3. پارامتر فنی

4- دستورالعمل

1) آب خالص را تا سه چهارم درون مخزن تمیز کردن قرار دهید ، سپس ماده را در غلظت 3٪ اضافه کنید ، آب را به سطح کار اضافه کنید ، در آخر ، محلول حمام را تا دمای کار گرم کنید.

2) نیاز به تغییر محلول حمام به طور کامل پس از خرد کردن یک قطعه سیلیکون خاص.

3) زمان در معرض هوا را کاهش می دهد تا از اکسیداسیون جلوگیری شود.

4) دمای کار 50-65 درجه ، زمان دفع: 2-5 دقیقه.

5- یادداشت ها

1) نوار خورشیدی نمی تواند آب را لمس کند ، اگر به موقع تمیز نشود ، باید در انحصار یا عامل دفع گاز غرق شوید.

2) برای جلوگیری از خشک شدن هوا ، لازم است نوار خورشیدی را به محض ورود به فرآیند چربی زدایی دفع کنید.

3) در هنگام جوانه زدن نوار خورشیدی را مرطوب نگه دارید تا از خشکی هوا جلوگیری شود.

4) برای جلوگیری از قطعه قطعه شدن ، لازم است که هنگام دفع اولتراسونیک ، سوئیچ حباب مخزن شماره 1 و no2 را خاموش کنید ، سپس بعد از رفع سوئیچ را روشن کنید.

5) نیاز به تغییر مخزن شماره 5/6 و 7 بعد از یک چرخه کاهش یافته است.

6) برش سیلیکونی قابل لمس نیست. کارگران برای جلوگیری از اثر انگشت باید با دستکش کار کنند.

7) برای دستیابی به ترخیص کالا ، نیاز به پاشیدن برش سیلیکون حداقل 30miniuts قبل از جوانه زنی.

6. اضافات

1) بسته بندی: 20 کیلوگرم / کارتن (2 کیلوگرم / بطری) ، 25 کیلوگرم / بشکه پلاستیک ، 1000 کیلوگرم / بشکه

2) مدت اعتبار: یک سال